半导体高纯介质测量方案

半导体制造对工艺介质纯度要求达 ppb 级，仪表选型逻辑与常规工业场合有本质区别。

超纯水系统

超纯水电阻率高达 18.2 MΩ·cm，电磁流量计无法工作，应采用超声波或科氏质量流量计。所有接液部件为高纯 PFA 或 PTFE，管路连接采用扩口或焊接，避免使用可能析出污染物的密封件。

特种气体

硅烷、氨气、六氟化钨等具有自燃性、毒性与腐蚀性，仪表须满足本安或隔爆要求，内表面粗糙度 Ra ≤ 0.25 μm 以避免颗粒附着。质量流量控制器为主流选择，标定须使用实际工艺气体。

湿法化学品

硫酸、氢氟酸、双氧水的流量测量需重点关注材质兼容性，PVDF 或 PFA 衬里电磁流量计是常见方案，但需注意其温度上限低于常规衬里。

核心原则

"不引入污染"应置于"测量精度"之前考虑。任何可能析出金属离子、脱落颗粒或残留液体的结构都应排除。